[发明专利]基于生成对抗模型的全自动抠图方法及装置、介质和设备有效
申请号: | 202110346470.3 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN113034517B | 公开(公告)日: | 2023-02-14 |
发明(设计)人: | 周泽洋;韩国强 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | G06T7/11 | 分类号: | G06T7/11 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 郑浦娟 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于生成对抗模型的全自动抠图方法及装置、介质和设备,方法首先计算初始的待抠图输入图片所对应的隐空间编码,由生成对抗模型的生成器将隐空间编码转换成输入图片的替代图片;然后将该替代图片输入至分割网络中,得到三元分割图和置信度,计算熵最小化损失来迭代优化隐空间编码;将三元分割图和替代图片一起输入到抠图模块,得到图片的主体区域;输入图片、主体区域和任意一张背景图片再合成新图片,并输入至生成对抗模型的判别器,根据熵最小化损失和对抗损失迭代优化隐空间编码。优化后的隐空间编码能更好地适应分割网络和抠图模块,最终得到的主体区域即是抠图结果。本发明优化了抠出的主体区域,可实现全自动抠图。 | ||
搜索关键词: | 基于 生成 对抗 模型 全自动 方法 装置 介质 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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