[发明专利]R-T-B系烧结磁体的制造方法在审
申请号: | 202110324228.6 | 申请日: | 2021-03-26 |
公开(公告)号: | CN113451033A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 国吉太 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02;H01F1/057 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;吕秀平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明要解决的技术问题在于:提供能够通过抑制烧结体尺寸偏差来减少烧结体的加工余量的R-T-B系烧结磁体的制造方法。解决方案在于:R-T-B系烧结磁体的制造方法包括:准备R-T-B系烧结磁体用合金的粉末的粉碎工序;使用上述粉末制作粉末成型体的成型工序;将上述粉末成型体切断,分割成多个成型体片的切断工序;和对上述多个成型体片中的各个成型体片进行烧结来制作多个烧结体的烧结工序,在上述切断工序中,基于上述粉末成型体的制作中使用的上述粉末的粉体物性数据和上述粉末成型体的粉末成型体物性数据,设定上述粉末成型体的切断间隔。 | ||
搜索关键词: | 烧结 磁体 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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