[发明专利]一种基于TiB晶须的钛或钛合金的梯度渗层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110293937.2 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN113046683B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 段永华;卢耀平;王昕宇;吴影;王勇;曲德艺 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C23C8/68 分类号: C23C8/68;C23C10/48;C23C8/02
代理公司: 天津煜博知识产权代理事务所(普通合伙) 12246 代理人: 朱维
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种基于TiB晶须的钛或钛合金的梯度渗层及其制备方法,属于表面处理技术领域。本发明基于TiB晶须的钛或钛合金的梯度渗层从表面至基体依次包括TiB2外层、TiB晶须‑TiAl3次外层、TiAl3层和扩散层,梯度渗层的厚度不小于100μm,表面硬度不小于2200HV,表面层与基体层的硬度差不大于500HV;在钛或钛合金基体中生长TiB晶须,通过渗铝‑渗硼的复合渗方法在TiB2层和TiAl3层之间形成TiB晶须‑TiAl3层,获得厚度不小于100μm且硬度梯度变化平缓的梯度渗层,弥补钛或钛合金表面渗层厚度小、硬度梯度大的缺陷,改善钛或钛合金的耐磨性和高温抗氧化性。
搜索关键词: 一种 基于 tib 钛合金 梯度 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110293937.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top