[发明专利]多晶硅还原炉的底盘、底盘组件以及还原炉有效
申请号: | 202110286578.8 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN112960674B | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 石何武;汪绍芬;石涛;杨永亮;严大洲 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C01B33/035 | 分类号: | C01B33/035 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 杜德海 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开多晶硅还原炉的底盘、底盘组件以及还原炉,包括盘体,所述盘体具有多个进气口组和多个还原尾气出口组;和多个电极基座组,多个所述电极基座组沿所述盘体的径向间隔开地设在所述盘体上,每个所述电极基座组包括沿所述盘体的周向间隔开的多个电极基座,其中多个所述电极基座组和多个所述进气口组沿所述盘体的径向交替设置,一个所述还原尾气出口组位于多个所述电极基座组的外侧,其余的每个所述还原尾气出口组在所述盘体的径向上位于相邻两个所述电极基座组之间。通过进气口组和还原尾气出口组的设置,使得多晶硅还原炉内的温度场均匀,从而不仅可以有利于硅棒的沉积,从而改善硅棒的表面质量。 | ||
搜索关键词: | 多晶 还原 底盘 组件 以及 | ||
【主权项】:
暂无信息
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