[发明专利]一种高残余黏着率离型膜及其制备方法在审
申请号: | 202110286078.4 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN113201295A | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 林艳芬;李伟佳;周飞;冯卓滨;冯小芬 | 申请(专利权)人: | 佛山华韩卫生材料有限公司 |
主分类号: | C09J7/40 | 分类号: | C09J7/40;C09D183/06;C09D183/04;C09D7/63;C09D7/65 |
代理公司: | 佛山中贵知识产权代理事务所(普通合伙) 44491 | 代理人: | 何展提 |
地址: | 528000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种高残余黏着率离型膜。它是由下述重量百分比的各原料组成的:丙烯酸酯基聚硅氧烷60%‑90%、超支化聚硅氧烷10%‑40%、光引发剂2%‑4%,本方法采用结构新型、高敏感度、低毒性等综合性能良好的光引发剂2‑(2‑乙酰基噻吩)‑5‑乙酰基‑3,4‑乙烯二氧噻吩,并将其应用在自由基光固化离型膜上,让离型膜的残余黏着率提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 残余 黏着 率离型膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山华韩卫生材料有限公司,未经佛山华韩卫生材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110286078.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:测量阵列天线的相位一致性补偿值的方法和系统
- 下一篇:一种标定方法