[发明专利]一种晶体处理装置及方法有效

专利信息
申请号: 202110270143.4 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN113001793B 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 沈安宇;湛希栋;张耀文;李磊磊;张亮 申请(专利权)人: 山东天岳先进科技股份有限公司
主分类号: B28D5/00 分类号: B28D5/00;B28D7/00;B28D7/04
代理公司: 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 代理人: 吴绍群
地址: 250118 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本申请公开了一种晶体处理装置及方法,属于晶体处理技术领域。所述晶体处理装置包括:机架,所述机架上安装有基座,所述基座上设置有用于夹持晶体的夹持机构,所述夹持机构包括第一开口;碰撞组件,所述碰撞组件设置在所述夹持机构的外侧,所述碰撞组件包括第一碰撞件和第一动力机构,所述第一动力机构用于驱动所述第一碰撞件运动,并经过所述第一开口以碰撞所述晶体,直至所述晶体开裂。该晶体处理装置处理晶体时未接触到晶体的断裂面,因此不会留下切割痕迹,可以得到清晰的断面,从而能够更加清楚的观察到晶体内部结构,使得观察结果更加准确客观。
搜索关键词: 一种 晶体 处理 装置 方法
【主权项】:
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