[发明专利]改善腔体气流均匀性的薄膜沉积装置及方法

摘要

本发明是关于一种改善腔体气流均匀性的薄膜沉积装置及方法，该薄膜沉积装置包括腔体包括第一室和第二室，设置于第一室和第二室上方的进气口，设置于腔体下部中心处的泵抽气口，泵抽气口连通第一室和第二室，并与泵连接，第一室内的结构和第二室内的结构相同，薄膜沉积装置还包括：加热盘上承载基板，加热盘背离基板的一侧设有支撑柱，支撑柱位于加热盘的中心处；陶瓷环设置于第一室和第二室的侧壁上；第一隔板，设置于加热盘背离基板的一侧，第一隔板上设有第一穿过孔，支撑柱穿过第一穿过孔，第一隔板与加热盘之间设有间隔。该薄膜沉积装置使泵排气流速可控，使腔体内压力和气流均匀，优化薄膜的均匀性，提高泵排气流速减少残留物。