[发明专利]一种渗滤复合薄膜、制备方法及其光电应用在审

专利信息
申请号: 202110263158.8 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113078263A 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 杨化桂;葛兵;杨双;侯宇 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人: 顾兰芳
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种渗滤复合薄膜、制备方法及其光电应用。是由一种无机半导体和一种绝缘体纳米颗粒组成的互穿网络结构;其中,所述的半导体材料,是金属氧化物、金属硫化物、金属磷化物或金属氮化物;所述绝缘体材料,是碳酸盐。本发明利用溶液法制备低成本、无机半导体‑绝缘体组成的两相渗滤网络结构,并用作钙钛矿太阳能光电器件的空穴传输层材料。稳定的双相渗滤结构具有优异的导电性和匹配的能带,优化了空穴的提取和传输路径,从而有效的提升钙钛矿光电器件的能量转化效率及长期运作稳定性。
搜索关键词: 一种 渗滤 复合 薄膜 制备 方法 及其 光电 应用
【主权项】:
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