[发明专利]一种磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法在审
| 申请号： | 202110254632.0 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN113046710A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 周群飞;李爽;方敦刚 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技（长沙）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张欣然 |
| 地址： | 410100 湖南省长*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法，磁控溅射镀膜均匀性调整装置包括：储存惰性气体的储气机构、进气气管和通气气管、真空腔室、靶材，通气气管通过进气气管与储气机构连接，通气气管竖向设于真空腔室内且设置有多个朝向靶材的气孔；若干个气孔的高度位置不同，还包括用于根据被镀基材的膜厚控制不同高度位置的气孔的气流量的控制机构。本发明提供的磁控溅射镀膜均匀性调整装置的结构简单，使用方便，可以对磁控溅射过程中不同高度位置的气体流量进行灵活调节；且不会出现膜层堆叠，允许电场和磁场的均匀性以及靶材与被镀基板之间的距离的一致性等存在误差，调节过程方便、且容易控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 均匀 调整 装置 方法 | ||
【主权项】：
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