[发明专利]暗场成像结合空间移相干涉的微球缺陷检测装置及方法在审
申请号: | 202110254460.7 | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN112903713A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 卢丙辉;刘国栋;刘炳国;陈凤东;庄志涛;甘雨;路程 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95 |
代理公司: | 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 | 代理人: | 杨晓辉 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 暗场成像结合空间移相干涉的微球缺陷检测装置及方法,涉及光学检测技术领域。为了解决检测效率低的问题。本发明使线偏振光依次透过λ/2波片、4f扩束系统和高倍显微物镜后入射至针孔反射镜的针孔,针孔反射镜衍射出的光一部分经D形反射镜反射至第二准直透镜后形成参考光,剩余部分依次透过第一准直透镜、λ/4波片、分光棱镜和显微物镜入射至被测微球,其反射光经显微物镜、分光棱镜、成像透镜和掩膜板入射至成像CCD形成被测微球的二维信息图像,分光棱镜透射光原路返回至第二准直透镜准直后构成测量光,参考光和测量光叠加经过波片组调制、检偏器使参考光和测量光产生干涉后入射至大面阵高速相机构成被测微球的三维信息图像。 | ||
搜索关键词: | 暗场 成像 结合 空间 相干 缺陷 检测 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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