[发明专利]暗场成像结合空间移相干涉的微球缺陷检测装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110254460.7 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN112903713A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 卢丙辉;刘国栋;刘炳国;陈凤东;庄志涛;甘雨;路程 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95
代理公司: 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 代理人: 杨晓辉
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 暗场成像结合空间移相干涉的微球缺陷检测装置及方法,涉及光学检测技术领域。为了解决检测效率低的问题。本发明使线偏振光依次透过λ/2波片、4f扩束系统和高倍显微物镜后入射至针孔反射镜的针孔,针孔反射镜衍射出的光一部分经D形反射镜反射至第二准直透镜后形成参考光,剩余部分依次透过第一准直透镜、λ/4波片、分光棱镜和显微物镜入射至被测微球,其反射光经显微物镜、分光棱镜、成像透镜和掩膜板入射至成像CCD形成被测微球的二维信息图像,分光棱镜透射光原路返回至第二准直透镜准直后构成测量光,参考光和测量光叠加经过波片组调制、检偏器使参考光和测量光产生干涉后入射至大面阵高速相机构成被测微球的三维信息图像。
搜索关键词: 暗场 成像 结合 空间 相干 缺陷 检测 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110254460.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top