[发明专利]一种MMC多维阻抗降阶与稳定性分析方法、系统及介质有效
申请号: | 202110242184.2 | 申请日: | 2021-03-04 |
公开(公告)号: | CN113051716B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 蔡旭;宗皓翔;吕敬 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;G06Q10/06;H02M7/483;G06F119/02 |
代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 徐红银 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种MMC多维阻抗降阶与稳定性分析方法、系统及介质,包括:建立MMC的多维阻抗模型;基于对角占优理论,确定多维阻抗稳定性判定的简化依据;确定多维阻抗主导元素的分布;基于所得到的主导元素分布,建立系统不对称强度的量化指标;基于不对称强度的评估结果,确定多维阻抗降阶模型的结构;基于临界稳定条件,对降阶模型进行稳定性分析误差评估。本发明适用于MMC的对称运行工况以及不对称运行工况,在不影响稳定性判定精度的前提下,大幅降低了所需理论模型的维数,便于复杂互联系统的交互稳定性分析,具有模块化、简便、精确等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 mmc 多维 阻抗 稳定性 分析 方法 系统 介质 | ||
【主权项】:
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