[发明专利]一种基于非邻近色块的陷印区优化方法及装置有效
| 申请号： | 202110237299.2 | 申请日： | 2021-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN112967250B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 郭海 | 申请（专利权）人： | 方正株式（武汉）科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/13;G06T7/136;G06T7/90 |
| 代理公司： | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人： | 廉海涛 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及基于非邻近色块的陷印区优化方法及装置，其方法包括如下步骤：获取图稿的色块和色块边界；根据所述色块和色块边界确定各色块之间的陷印边界；确定每个陷印边界的陷印方向；根据陷印方向确定每个陷印边界的进入色块、被进入色块及其邻接色块；根据所述被进入色块及其邻接色块的颜色和陷印条件判断是否对所述被进入色块及其邻接色块进行融合；根据进入色块和融合后的被进入色块生成陷印区。本发明通过被进入色块及其邻接色块的颜色和陷印条件来判断非邻接的陷印区，通过融合的方法消除了陷印缺口，使得陷印的效果更加美观。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 邻近 陷印区 优化 方法 装置 | ||
【主权项】：
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