[发明专利]吸附装置和蒸镀设备在审
| 申请号： | 202110203944.9 | 申请日： | 2021-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN113005400A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 刘佳宁;白珊珊;刘华猛;王伟伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种吸附装置和蒸镀设备，所述吸附装置用于蒸镀设备，其中，吸附装置包括：底座；驱动机构，与所述底座连接，并且能够驱动所述底座沿指定方向移动；吸附器件，设于所述底座；所述吸附器件具有中心磁体和多个环形的周边磁体，各所述周边磁体均环绕所述中心磁体设置，且依次向远离所述中心磁体的方向间隔分布。该吸附装置能够解决掩模板不易被吸附平整的问题，从而降低蒸镀过程中的混色风险，进而提高蒸镀良率。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附 装置 设备 | ||
【主权项】：
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