[发明专利]红外光学系统杂散辐射的分析方法和抑制方法在审
| 申请号： | 202110196136.4 | 申请日： | 2021-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN113008377A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 栗洋洋;彭晴晴 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | G01J5/00 | 分类号： | G01J5/00 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 罗丹 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种红外光学系统杂散辐射的分析方法和抑制方法，红外光学系统杂散辐射的分析方法，包括：基于红外光学系统，在杂散光分析软件中构建光机分析模型，并对光机分析模型中的各个光机部件进行表面属性定义；通过在光机分析模型中设置探测器表面光源，在所述光机分析模型外设置远场接收器，对红外光学系统进行逆向光路追迹，以分析外部杂散辐射的入射角度和光线路径。采用本发明，可以实现红外光学系统外部杂散辐射的快速、全面分析，有助于提出有效的抑制措施，最终明显消除或抑制外部杂散辐射对红外成像系统的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 光学系统 辐射 分析 方法 抑制 | ||
【主权项】：
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