[发明专利]红外光学系统杂散辐射的分析方法和抑制方法

权利要求书

1.一种红外光学系统杂散辐射的分析方法，其特征在于，包括：

基于红外光学系统，在杂散光分析软件中构建光机分析模型，并对所述光机分析模型中的各个光机部件进行表面属性定义；

通过在所述光机分析模型中设置探测器表面光源，在所述光机分析模型外设置远场接收器，对所述红外光学系统进行逆向光路追迹，以分析外部杂散辐射的入射角度和光线路径。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述远场接收器为一个以球坐标系定义的球面，该球面的半径r为无穷远，天顶角θ为(180-2w)°，其中2w为所述红外光学系统的全视场角，方位角φ为360°。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述探测器表面光源的辐射特性为朗伯辐射体，辐射立体角Ω满足以下关系式：

其中，D为探测器冷光阑口径，L为冷光阑到靶面的距离。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述探测器表面光源的温度T为探测器工作温度，辐射率为1，辐出射度M满足以下关系式：

其中，λ1、λ2为探测器响应波段范围的两个端点，c1为第一黑体辐射常数；c2为第二黑体辐射常数。

5.一种红外光学系统杂散辐射的抑制方法，其特征在于，包括：

采用如权利要求1-4中任一项所述的红外光学系统杂散辐射的分析方法，分析红外光学系统外部杂散辐射的入射角度和光线路径；

基于分析结果，为所述红外光学系统设计相应的抑制措施。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述抑制措施包括：

在所述红外光学系统的镜筒内壁面设置消光螺纹，以增加光线在该表面的反射次数或散射次数；

对所述红外光学系统中漏光部位进行遮挡处理；

对所述红外光学系统的镜筒内壁面进行增加表面对红外辐射吸收率的处理。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述消光螺纹为等间距螺纹，螺距p满足：1.5mm≤p≤5mm，牙型角α满足：30°≤α≤45°。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法，还包括：

针对添加的抑制措施进行内部杂散辐射分析，以确保抑制措施不会引入新的内部辐射干扰。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述针对添加的抑制措施进行内部杂散辐射分析，包括：

设置辐射温度为70℃，辐射出射率等于表面吸收率，对添加的抑制措施进行内部杂散辐射分析。

10.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法，还包括：

通过实际成像实验，评估所述抑制措施对杂散辐射的抑制效果。