[发明专利]利用磁场而具有沿厚度方向排列的离子传输路径的离子传导性膜及其制造方法在审
| 申请号: | 202110183954.0 | 申请日: | 2021-02-10 |
| 公开(公告)号: | CN113258110A | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
| 发明(设计)人: | 金熙卓;玄宗弦 | 申请(专利权)人: | 韩国科学技术院 |
| 主分类号: | H01M8/1053 | 分类号: | H01M8/1053;H01M8/1086;C08J5/22;C08L101/04;C08K7/04;C08K3/22;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;李书慧 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
| 摘要: | 根据本发明的离子传导性膜包括离子传导性基质、以及分散在上述离子传导性基质中并沿膜厚度方向取向的一维复合体,上述一维复合体包括:非传导性的一维纳米结构的核、包裹上述核并在其表面结合有磁性纳米颗粒的中间层、以及传导与上述基质内的离子相同种类的离子的表面层。 | ||
| 搜索关键词: | 利用 磁场 具有 厚度 方向 排列 离子 传输 路径 传导性 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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