[发明专利]用于清洗清洁工作头的基站及清洁系统在审
| 申请号： | 202110181606.X | 申请日： | 2021-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN114903389A | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 苏州乐图智能科技有限公司 |
| 主分类号： | A47L11/40 | 分类号： | A47L11/40;A47L11/29;A47L11/24 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 江海浪 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于清洗清洁工作头的基站及清洁系统，在清洗过程中，移动装置将清洁工作头从第一工位移动至第二工位上；接着，通过清洁装置，对第二工位上的清洁工作头进行清洁，实现清洁工作头的自动清洗，提高智能清洁效率。由于第二工位高于第一工位，因此，清洁工作头的清洁位置与第一工位之间存在高度差(例如清洁位置与地面存在一定的高度差)。如此，相比于传统地面设置清洗槽技术，本申请能有效避免使用清洁槽，产生的污水也无需抽至上方污水箱中。另外，由于第二工位与第一工位之间存在高度差，因此在处理沉积的固态或者半固态污渍时只需通过倾倒或者排放等动作即可完成，简化清洁工作头的清洗作业，避免需对清洁槽进行清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洗 清洁 工作 基站 系统 | ||
【主权项】：
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