[发明专利]用于清洗清洁工作头的基站及清洁系统

权利要求书

1.一种用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述用于清洗清洁工作头的基站包括：

基站主体；

移动装置，设置于所述基站主体上，用于将清洁工作头从第一工位移动至第二工位，其中，所述第二工位高于所述第一工位；

清洁装置，用于对位于所述第二工位的所述清洁工作头进行清洁。

2.根据权利要求1所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述移动装置还用于将清洁后的所述清洁工作头释放至所述第一工位。

3.根据权利要求1所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述清洁装置包括第一水箱，所述第一水箱用于盛装清洁液，所述第一水箱所在位置高于第一工位。

4.根据权利要求3所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述清洁装置还包括喷淋装置，所述喷淋装置用于为所述清洁工作头的清洁过程喷出清洁液。

5.根据权利要求4所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述喷淋装置所在高度大于或者等于所述第二工位所在高度，所述第二工位上的清洁液能流入所述第一水箱内。

6.根据权利要求4所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述第一水箱用于供用户进行倾倒处理。

7.根据权利要求3所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述第一水箱用于供所述清洁工作头以浸入清洁液的方式进行清洁；和/或，

所述第一水箱内设置有对所述清洁工作头清洗的清洁机构。

8.根据权利要求3所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述第一水箱还设置有供使用后的所述清洁液排出的液体排出口。

9.根据权利要求1或3所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述清洁装置包括：

清洁组件，所述清洁组件具有工作状态，在所述工作状态下，所述清洁组件与所述清洁工作头接触，并与所述清洁工作头产生相对运动，以实现对所述清洁工作头进行清洁。

10.根据权利要求9所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述清洁装置还包括第一驱动机构，所述第一驱动机构用于带动所述清洁组件运动，以使所述清洁组件处于工作状态。

11.根据权利要求4所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述清洁装置还包括：

第二水箱，所述第二水箱用于提供清洁液。

12.根据权利要求11所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述喷淋装置装设于所述第二水箱的外表面或者内部。

13.根据权利要求3所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述用于清洗清洁工作头的基站还包括驱动装置，所述驱动装置用于带动所述第一水箱运动。

14.根据权利要求13所述的用于清洗清洁工作头的基站，其特征在于，所述驱动装置能带动所述第一水箱沿着所述基站主体的高度方向和/或水平方向运动。

15.一种清洁系统，其特征在于，所述清洁系统包括清洁机器人、清洁工作头及权利要求1-14所述的用于清洗清洁工作头的基站，所述清洁工作头以能够拆卸的方式设置于所述清洁机器人上。