[发明专利]异质GeSn基固态等离子体PiN二极管的制备方法及其器件在审
申请号: | 202110168697.3 | 申请日: | 2021-02-07 |
公开(公告)号: | CN112993045A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 苏汉;郑敏 | 申请(专利权)人: | 中国人民武装警察部队工程大学 |
主分类号: | H01L29/868 | 分类号: | H01L29/868;H01L29/06;H01L21/329 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 姬莉 |
地址: | 710086 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种异质GeSn基固态等离子体PiN二极管的制备方法及其器件,制备方法包括:选取某一晶向的GeOI衬底,并在GeOI衬底内掺杂形成顶层GeSn区;在衬底顶层GeSn区内设置深槽隔离区;刻蚀GeSn区形成P型沟槽和N型沟槽,P型沟槽和N型沟槽的深度小于顶层GeSn区的厚度;在P型沟槽和N型沟槽内采用离子注入形成P型有源区和N型有源区;在衬底上形成GeSn合金引线,以完成制备。本发明通过顶层GeSn区的引入使得本征区内部载流子的输运机制得到改善,通过动态控制顶层Ge中Sn组分的含量使得本征区禁带宽度可调,从而提高载流子注入比以改善固态等离子体的浓度和分布均匀性。 | ||
搜索关键词: | 异质 gesn 固态 等离子体 pin 二极管 制备 方法 及其 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民武装警察部队工程大学,未经中国人民武装警察部队工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110168697.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类