[发明专利]光掩模盒及于一光掩模盒内固持一光掩模的方法在审
| 申请号： | 202110124823.5 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN113741138A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 邱铭乾;庄家和;温星闵;李怡萱;薛新民 | 申请（专利权）人： | 家登精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/22 | 分类号： | G03F1/22 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 姜璐璐;臧微微 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光掩模盒及于一光掩模盒内固持一光掩模的方法，具有一盒盖及提供于该盒盖的一或多个销组件，该销组件包含：一可动部，配置成能相对于该盒盖的一顶部垂直地移动；及一弹性部，配置成使该可动部介于该弹性部和该盒盖的顶部之间。当该光掩模盒未容置一光掩模时，该盒盖的顶部决定该可动部位于一第一水平，且当该光掩模盒容置该光掩模时，该弹性部配合该可动部使该可动部固持该光掩模而位于一第二水平，该第二水平高于该第一水平。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模盒 一光掩模盒内固持一光掩模 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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