[发明专利]基于人工期望的目标图案掩膜优化方法在审
| 申请号： | 202110103267.3 | 申请日： | 2021-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN113189845A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 彭飞;宋毅;桂成群 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36;G06T11/60;G06T7/13 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 石超群 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于人工期望的目标图案掩膜优化方法，包括以下步骤：将目标图案转化为像素化图案并对其进行高频区域与高频点的提取，进一步构造基于人工期望的期望目标图案；将期望目标图案的数值作为晶圆电路板图像素化数值以构建代价函数和约束条件；根据所述约束条件对所述期望目标图案的掩膜数值进行更新。本发明在不改变电路主要特征的前提下把目标图案的高频信号拉低，使其低到一个可以补偿的范围，然后再对新的目标图案进行补偿，使图案的高频信号得以恢复，提高图像保真度，使得晶圆图案的图案误差和边缘放置误差均得到进一步减小；同时，极大地提高了工艺可制造性，使得晶圆图案的图案误差和边缘放置误差均得到进一步减小。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 人工 期望 目标 图案 优化 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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