[发明专利]一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备在审
| 申请号： | 202110091514.2 | 申请日： | 2021-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN112921283A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 梁小明 | 申请（专利权）人： | 梁小明 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50;C23C14/54;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其结构包括密封盖、沉积装置、控制器、检修门，密封盖嵌固在沉积装置内部上端，控制器安装于沉积装置侧面，检修门与沉积装置侧面采用合页配合，卡合板带动固定环内侧的活动块与挤压机构外侧挤压滑动，通过相对位置的改变，继而控制原料在喷洒口内的阻挡压力，达到对原料喷洒角度改变的作用，从而参照晶圆曲面的角度对喷洒角度进行调整，通过对原料喷洒压力的控制使原料沉积后较为均匀，避免产生曲翘力，贴合机构贴合在晶圆最上端水平位置的侧面，避免喷洒的原料在晶圆边缘活动，防止混乱漂浮的原料往晶圆边缘方向活动，避免晶圆边缘进行薄膜沉积时不均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶圆上 沉积 薄膜 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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