[发明专利]一种掩膜式金属喷射沉积增材制造方法在审
| 申请号： | 202110089050.1 | 申请日： | 2021-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN113145858A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 刘丰;王佳琳;王永威;戎文娟;马伊诺 | 申请（专利权）人： | 北京机科国创轻量化科学研究院有限公司 |
| 主分类号： | B22F10/22 | 分类号： | B22F10/22;B33Y10/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜式喷射成形增材制造方法，属于金属直接增材制造领域。该方法首先根据成形目标零部件模型的形状尺寸，进行切层处理，并生成一组具有特定轮廓的屏蔽掩膜；其次数控加工制作出多个掩膜，并按照预定顺序形成掩膜队列；在喷射成形过程中，逐层依次将掩膜添加至成形位置，金属熔液通过气雾化喷嘴，形成金属液喷雾，沉积到零件成形面掩膜限定的区域内；然后掩膜离位并顺序添加下一层掩膜，继续覆盖沉积金属材料，最终形成以多层掩膜型腔为外边界的金属零件。在金属喷射沉积增材制造过程中，采用精度良好的多层掩膜，可以提高金属喷射沉积零部件的成形精度。该方法适用于具有一定尺寸精度要求的金属零部件的直接喷射沉积成形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜式 金属 喷射 沉积 制造 方法 | ||
【主权项】：
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