[发明专利]一种镀膜方法

摘要

本发明公开了一种镀膜方法，包括以下步骤：向工艺腔室内输入待镀膜工件；对所述工艺腔室内的待镀膜工件进行预热，预热过程中采用氩等离子体对所述工艺腔室的内壁进行预清洗处理，以减少工艺腔室内镀膜颗粒污染；将经过预清洗处理后的所述工艺腔室抽至镀膜所需的底压，在所述工艺腔室内对待镀膜工件进行镀膜。在镀膜工艺前，采用氩等离子体对所述工艺腔室的内壁进行预清洗处理，可以使工艺腔室内壁较为松动的薄膜提前脱落，留下附着力良好的薄膜，进而大幅度降低镀膜工艺过程中的膜颗粒的掉落风险；而且，氩等离子处理过程中对工艺腔室有一定的升温作用，可缩短待镀膜工件在工艺腔室中的加热过程，不会影响生产效率。