[发明专利]一种用于制备氮化硼纳米片的研磨装置有效
申请号: | 202110024498.5 | 申请日: | 2021-01-08 |
公开(公告)号: | CN112742570B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 李瑞涛;倪旺;李华;王匀;李富柱;刘为力;朱奕帆;黄灿;任立辉 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | B02C19/00 | 分类号: | B02C19/00;B02C19/18;B02C23/00;B02C23/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于制备氮化硼纳米片的研磨装置,涉及纳米材料制备领域,包括物料输送结构、研磨结构和超声分散结构;所述物料输送结构将物料输送到研磨结构进行研磨,研磨结束后进入超声分散结构分散后获得制品。通过物料传送带将六方氮化硼和硬质微粒混合物传送至物料箱再利用研磨装置对六方氮化硼进行剥离,最后经过超声静置干燥得到二维片状氮化硼纳米片。本发明提出的装置具有产量高、自动化程度高、剥离的纳米片尺寸大等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 氮化 纳米 研磨 装置 | ||
【主权项】:
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