[发明专利]一种线式PECVD系统在审
| 申请号： | 202110024152.5 | 申请日： | 2021-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN112746267A | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 杨与胜;倪鹏玉;张建德;赖礼铭 | 申请（专利权）人： | 福建金石能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/458;C23C16/54;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 362200 福建省泉州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种线式PECVD系统，它包括第一沉积装置、第二沉积装置以及第三沉积装置；所述第一沉积装置与第二沉积装置之间设有用于基片翻面、转运的第一基片翻面移转装置，所述第二沉积装置与第三沉积装置之间设有用于基片翻面、转运的第二基片翻面移转装置；所述第一沉积装置与第二沉积装置之间设有用于基片载板升降回转的第一载板回转装置，所述第二沉积装置与第三沉积装置之间设有用于基片载板升降回转的第二载板回转装置。本发明的目的在于提供一种线式PECVD系统，在各沉积工序中载板独立循环，防止载板上沉积不同的物质，避免在反应腔中载板沉积物对太阳能电池片造成掺杂。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pecvd 系统 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
