[发明专利]一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源在审
| 申请号： | 202110002163.3 | 申请日： | 2021-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN114724912A | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 张瑶瑶;刘小波;胡冬冬;张怀东;刘海洋;李娜;郭颂;李晓磊;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/08 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 石艳红 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种线圈结构能随放电腔结构进行变化的离子源，包括从外至内依次同轴设置的离子源腔、线圈支撑、线圈和放电腔本体；放电腔本体包括放电腔顶部、放电腔中部和放电腔底部；放电腔顶部为中空圆环；放电腔底部为中心设有进气孔的圆盘；放电腔中部包括上端直筒和下端Dome型筒；线圈支撑的外圈安装在离子源腔的内壁面，线圈支撑的内壁面形状与放电腔本体的形状相同；线圈安装在线圈支撑内，且包括筒形螺旋线圈和Dome型线圈；筒形螺旋线圈的位置与上端直筒的位置相对应，Dome型线圈与下端Dome型筒的位置相对应；每层线圈到放电腔本体外壁面的距离均相等。本发明将盘香形ICP源与筒状ICP源相结合，能够分段调节放电腔本体内的等离子体密度，改善刻蚀均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 线圈 结构 放电 进行 变化 离子源 | ||
【主权项】：
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