[发明专利]图案形成装置调节系统以及方法在审
| 申请号： | 202080071627.X | 申请日： | 2020-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN114556222A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | M·A·范德柯克霍夫;F·M·J·H·范德维特林;A·M·雅库尼恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种掩模版调节系统，包括：支撑结构，该支撑结构用于支撑掩模版；气体供应模块，该气体供应模块用于提供邻近于掩模版的气流；以及偏压模块，该偏压模块用于控制掩模版的电势。偏压模块包括第一电极、第二电极和电源。第一电极和第二电极每一个与掩模版间隔开，并且面向掩模版以与掩模版至少部分地重叠。电源被布置成将第一电极保持在正电压并且将第二电极保持在负电压，这些电压使得掩模版的电压为负。第二电极被设置成使得在使用中，第二电极不与掩模版的图像形成部分重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 装置 调节 系统 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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