[发明专利]对准装置在审
| 申请号： | 202080066846.9 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN114450433A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 若林雅;泷本政美;野本将史 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华;洪秀川 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 对准装置具备控制部(4)，其在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离比相机(3)的景深前端距离长的情况下，一边使基板(12)进行高速接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置，在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离为相机(3)的景深前端距离以下的情况下，一边使基板(12)比高速接近移动慢地进行接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 | ||
【主权项】：
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