[发明专利]用于去除蚀刻残留物的组合物、其使用方法及用途在审
| 申请号： | 202080051185.2 | 申请日： | 2020-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN114127230A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 孙来生;王莉莉;吴爱萍;李翊嘉;陈天牛 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的和要求保护的主题涉及一种包含具有两个或更多个或者多于两个烷醇基团的烷醇胺、α‑羟基酸和水的蚀刻后残留物清洁组合物及其在微电子制造中的使用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 蚀刻 残留物 组合 使用方法 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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