[发明专利]用于去除蚀刻残留物的组合物、其使用方法及用途在审

专利信息
申请号: 202080051185.2 申请日: 2020-07-14
公开(公告)号: CN114127230A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 孙来生;王莉莉;吴爱萍;李翊嘉;陈天牛 申请(专利权)人: 弗萨姆材料美国有限责任公司
主分类号: C09K13/00 分类号: C09K13/00;H01L21/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 吴亦华;徐志明
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 去除 蚀刻 残留物 组合 使用方法 用途
【权利要求书】:

1.一种用于半导体衬底的清洁组合物,其包含:

(i)具有两个或更多个或者多于两个烷醇基团的烷醇胺;

(ii)α-羟基酸;和

(iii)水。

2.根据权利要求1所述的清洁组合物,包含两种或更多种烷醇胺,其中所述烷醇胺的两种具有两个或多于两个烷醇基团。

3.根据权利要求1所述的清洁组合物,包含两种或更多种烷醇胺,其中所述烷醇胺的第一种具有两个或更多个或者多于两个烷醇基团,并且所述烷醇胺的第二种具有一个烷醇基团。

4.根据权利要求2或3所述的清洁组合物,所述清洁组合物具有三种烷醇胺。

5.根据前述权利要求中任一项所述的清洁组合物,其中所述具有两个或更多个烷醇基团的烷醇胺选自N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺(TEA)、叔丁基二乙醇胺及其混合物。

6.根据权利要求3所述的清洁组合物,其中所述具有一个烷醇基团的烷醇胺选自单乙醇胺(MEA)、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、异丙醇胺、2-氨基-1-丙醇、3-氨基-1-丙醇、2-氨基-1-丁醇、异丁醇胺、2-氨基-2-乙氧基丙醇、2-氨基-2-乙氧基乙醇及其混合物。

7.根据前述权利要求中任一项所述的清洁组合物,其中所述α-羟基羧酸包含一个或多于一个酸基团(-COOH)。

8.根据前述权利要求中任一项所述的清洁组合物,其中所述α-羟基羧酸具有以下结构:

其中R1和R2可以独立为H、芳香族或非芳香族和/或饱和的或不饱和的碳环;或直链、支链或环状烷基。

9.根据前述权利要求中任一项所述的清洁组合物,其中所述α-羟基羧酸选自柠檬酸、丙醇二酸、糖酸、酒石酸、二羟基丙二酸及其混合物。

10.根据前述权利要求中任一项所述的清洁组合物,其中所述α-羟基羧酸选自乙醇酸、乳酸、苹果酸、葡萄糖酸、甘油酸、扁桃酸及其混合物。

11.根据前述权利要求中任一项所述的清洁组合物,所述清洁组合物进一步包含腐蚀抑制剂。

12.根据权利要求11所述的清洁组合物,其中所述腐蚀抑制剂选自苯酚或苯酚的衍生物、三唑或三唑的衍生物、多官能的有机酸或氨基酸或其混合物。

13.一种用于半导体衬底的清洁组合物,其基本上由以下组成:

(i)具有两个或更多个或者多于两个烷醇基团的烷醇胺;

(ii)α-羟基酸;和

(iii)水。

14.根据权利要求13所述的清洁组合物,其中所述具有两个或更多个烷醇基团的烷醇胺选自N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺(TEA)、叔丁基二乙醇胺及其混合物。

15.根据权利要求13或14中任一项所述的清洁组合物,其中所述α-羟基羧酸包含一个或多于一个酸基团(-COOH)。

16.根据权利要求13或14中任一项所述的清洁组合物,其中所述α-羟基羧酸具有以下结构:

其中R1和R2可以独立为H、芳香族或非芳香族和/或饱和的或不饱和的碳环;或直链、支链或环状烷基。

17.根据权利要求13或14中任一项所述的清洁组合物,其中所述α-羟基羧酸选自柠檬酸、丙醇二酸、糖酸、酒石酸、二羟基丙二酸及其混合物。

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