[实用新型]PICP干刻下电氦漏检测设备有效
| 申请号： | 202023219175.1 | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN215832948U | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 赵浩;金卫明;何新玉;朱传兵;强军 | 申请（专利权）人： | 芜湖芯通半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | G01M3/26 | 分类号： | G01M3/26;B66C1/10;F16J15/06 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 张巧婵 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市长江大桥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种应用于PICP干刻技术领域的PICP干刻下电氦漏检测设备，所述的PICP干刻下电氦漏检测设备的设备框架(1)上设置检测板定版(3)，起吊部件(2)的起吊部件上组件(6)包括带通孔的上吊具(8)，起吊部件下组件(7)包括设置在设备框架(1)上的固定座(9)，固定座(9)上设置杆件(10)，检测板定版(2)下部安装氦检抽气部件(30)，氦检抽气部件(30)与PICP下电(20)连通，氦检仪与检测板定版(3)连通，本实用新型的PICP干刻下电氦漏检测设备，能够方便快捷实现PICP下电的氦漏检测，有效完成PICP下电产品是否存在泄漏的判断，避免无法使用产品出厂情况出现。 | ||
| 搜索关键词： | picp 刻下 漏检 设备 | ||
【主权项】：
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