[实用新型]光投射装置、成像系统及电子设备有效
| 申请号： | 202022524233.5 | 申请日： | 2020-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN213986838U | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 成纯森;丁细超;李宗政 | 申请（专利权）人： | 江西欧迈斯微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01S17/894 | 分类号： | G01S17/894;G01S7/481;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人： | 范胜祥 |
| 地址： | 330096 江西省南昌市*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了光投射装置、成像系统及电子设备。其中，光投射装置包括：光源；至少两个依序排列的第一光整形元件，所述第一光整形元件配置为对入射光的一部分进行透射且对入射光的另一部分进行反射，排列顺序处于第一位的第一光整形元件设置为接收光源发射的光，其余第一光整形元件均设置为接收来自于排列顺序在前的一个第一光整形元件的反射光；第二光整形元件，所述第二光整形元件配置为对入射光进行透射，所述第二光整形元件设置为接收来自于排列顺序处于最后一位的第一光整形元件的反射光。光投射装置在工作时，每一个第一光整形元件和第二光整形元件均会投射出探测光线，可以有效地扩大探测光线的角度范围。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 装置 成像 系统 电子设备 | ||
【主权项】：
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