[实用新型]一种对极紫外光刻机表面去污的装置有效
申请号: | 202022503200.2 | 申请日: | 2020-11-03 |
公开(公告)号: | CN213558866U | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 鹿国庆;任雨航;冯之琳 | 申请(专利权)人: | 江苏海洋大学 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;B08B1/02;B08B13/00 |
代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 赵宇 |
地址: | 222000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种对极紫外光刻机表面去污的装置,包括支架、光刻机,所述支架上固定安装有电机一、电机二、滑杆、气管以及防尘网,所述支架上转动安装有两个转杆,且其中一个转杆与电机二驱动端之间通过卡合机构固定连接,两个所述转杆上共同套设有一个传送带,所述滑杆上转动安装有两个摇杆,两个所述摇杆上均转动安装有一个转块,且两个转块上均固定安装有毛刷一,两个所述摇杆与支架之间安装有固定机构。优点在于:通过对光刻机多面进行同时清理,提高了清理速度,通过对光刻机表面的灰尘进行吹除,有效的避免了利用擦布擦拭带来另外灰尘的问题发生,大大提高了清理效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 紫外 光刻 表面 去污 装置 | ||
【主权项】:
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