[实用新型]一种对极紫外光刻机表面去污的装置有效
申请号: | 202022503200.2 | 申请日: | 2020-11-03 |
公开(公告)号: | CN213558866U | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 鹿国庆;任雨航;冯之琳 | 申请(专利权)人: | 江苏海洋大学 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;B08B1/02;B08B13/00 |
代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 赵宇 |
地址: | 222000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外 光刻 表面 去污 装置 | ||
本实用新型公开了一种对极紫外光刻机表面去污的装置,包括支架、光刻机,所述支架上固定安装有电机一、电机二、滑杆、气管以及防尘网,所述支架上转动安装有两个转杆,且其中一个转杆与电机二驱动端之间通过卡合机构固定连接,两个所述转杆上共同套设有一个传送带,所述滑杆上转动安装有两个摇杆,两个所述摇杆上均转动安装有一个转块,且两个转块上均固定安装有毛刷一,两个所述摇杆与支架之间安装有固定机构。优点在于:通过对光刻机多面进行同时清理,提高了清理速度,通过对光刻机表面的灰尘进行吹除,有效的避免了利用擦布擦拭带来另外灰尘的问题发生,大大提高了清理效果。
技术领域
本实用新型涉及刻光机去污技术领域,尤其涉及一种对极紫外光刻机表面去污的装置。
背景技术
光刻机是制造芯片的核心装备,它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上,由于光刻机长期暴露在空气中会导致刻光机表面累积大量灰尘,因此需要定期利用去污装置来对其进行灰尘清理。
光刻机是一种较为精密的设备,对其表面进行清理采用人工擦拭清理方式,此种清理方式存在以下不足之处:1、擦拭效率低,2、擦拭布上留有部分灰尘导致擦拭清理效果差。
因此可采用一种新型光刻机表面去污装置来解决现有技术的不足之处。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中擦拭效率低以及擦拭效果差的问题,而提出的一种对极紫外光刻机表面去污的装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种对极紫外光刻机表面去污的装置,包括支架、光刻机,所述支架上固定安装有电机一、电机二、滑杆、气管以及防尘网,所述支架上转动安装有两个转杆,且其中一个转杆与电机二驱动端之间通过卡合机构固定连接,两个所述转杆上共同套设有一个传送带,所述滑杆上转动安装有两个摇杆,两个所述摇杆上均转动安装有一个转块,且两个转块上均固定安装有毛刷一,两个所述摇杆与支架之间安装有固定机构,所述滑杆上滑动安装有滑块,所述滑块与电机一之间安装有转动机构,所述滑块上固定安装有电推杆,所述电推杆上固定安装有毛刷二,所述气管上固定安装有多个喷头。
在上述的一种对极紫外光刻机表面去污的装置,所述卡合机构包括套筒以及套杆,所述电机二驱动端上固定安装有套筒,靠近所述电机二一侧的转杆靠近电机二的一端上固定安装有与套筒相配合的套杆。
在上述的一种对极紫外光刻机表面去污的装置,所述固定机构包括一个拉杆、一个卡杆以及两个弹簧,两个所述摇杆与对应的支架之间均固定安装有两个弹簧,两个所述摇杆上均固定安装有一个拉杆,且两个拉杆上均开设有齿槽,所述支架上固定安装有两个卡杆,且两个卡杆分别与对应的齿槽相配合。
在上述的一种对极紫外光刻机表面去污的装置,所述转动机构包括齿轮一、齿轮二以及齿条,所述滑块上固定安装有齿条,所述支架上转动安装有齿轮二,且齿轮二与齿条之间相啮合,所述电机一驱动端上固定安装有齿轮一,且齿轮一与齿轮二之间相啮合。
在上述的一种对极紫外光刻机表面去污的装置,所述支架底端固定安装有底座,且底座底部固定粘贴有橡胶垫。
在上述的一种对极紫外光刻机表面去污的装置,所述卡杆远离支架的一侧采用塑料制成,且卡杆靠近支架的一侧采用钢材质制成。
与现有的技术相比,本实用新型优点在于:
1、通过气管以及喷头的配合使用,可对光刻机表面的灰尘进行吹除,有效的避免了利用擦布擦拭带来另外灰尘的问题发生,大大提高了清理效果,同时配合防尘网的使用,有效的降低灰尘飞扬造成周边环境污染的现象发生。
2、通过毛刷一,毛刷二的配合使用,可对附着粘贴在光刻机表面的灰尘进行扫送或者扫落,进一步提高了对光刻机表面清理的清理效果,同时对光刻机多面进行清理,提高了清理速度。
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