[实用新型]内设掩膜层的感光干膜有效
申请号: | 202022416098.2 | 申请日: | 2020-10-27 |
公开(公告)号: | CN213240798U | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 杨与胜;黄巍辉;张超华 | 申请(专利权)人: | 福建金石能源有限公司 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;G03F1/62 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 张磊 |
地址: | 362200 福建省泉州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种内设掩膜层的感光干膜,它包括保护膜、感光层和掩膜层;所述保护膜覆盖于感光层的一侧表面,所述掩膜层覆盖于感光层的另一侧表面,掩膜层表面印制有特定的掩膜图案,掩膜图案采用遮光颜料印制,图案区域遮挡UV及可见光,非图案区域可透过UV及可见光。本实用新型的目的在于提供一种内设掩膜层的感光干膜,其将柔性掩膜集成于感光干膜内,实现曝光设备简化,提高生产节拍,优化了精细图案的图案转移效果。本实用新型的优点在于:本实用新型将柔性掩膜版集成于感光干膜中,替代光学承载膜层,曝光时无需曝光掩膜,曝光机无需设置真空吸附系统,使曝光机更加简洁,减少了曝光工艺的节拍,增加曝光设备的产能。 | ||
搜索关键词: | 内设 掩膜层 感光 | ||
【主权项】:
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