[实用新型]氧化亚硅的气化沉积装置有效
| 申请号： | 202022225348.4 | 申请日： | 2020-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN214059925U | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 袁正秋;许曙光;禹方甜 | 申请（专利权）人： | 孚林（常州）新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/113 | 分类号： | C01B33/113 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种氧化亚硅的气化沉积装置，包括真空室、第—材料托盘、第二材料托盘、析出基体、反应管、加热源、轴，反应管位于真空室内，加热源位于真空室内，轴的至少一部分位于反应管内，第—材料托盘、第二材料托盘以及析出基体分别安装在轴上，所述第—材料托盘、第二材料托盘分别呈弓形，第—材料托盘和第二材料托盘错位安装。本实用新型能够提升氧化亚硅的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 气化 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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