[实用新型]曝光用透明光罩和曝光设备有效
申请号: | 202022142234.3 | 申请日: | 2020-09-25 |
公开(公告)号: | CN213581730U | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 周金东;揭海欢;孙万华 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人: | 常鹏 |
地址: | 330013 江西省南昌*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种曝光用透明光罩和曝光设备,曝光用透明光罩包括:光罩本体,所述光罩本体内设置有冷却腔,所述冷却腔内流动有气态或液态的冷却介质,所述光罩本体上还设置有与所述冷却腔连通的进口和出口。通过在光罩本体内设置冷却腔,并且通过冷却腔内流经的冷却介质,从而可以使透明光罩温度的变化小,如此不会引起透明光罩尺寸的变化,进而不会造成曝光图案的失真。并且,透明光罩温度的变化小,从而不会将热量传导给基板,也不会使基板产生更大的变形,进而可以避免曝光后的产品尺寸的失真以及产品的质量不稳定。 | ||
搜索关键词: | 曝光 透明 设备 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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