[实用新型]一种用于硅片散热的金刚石膜散热结构有效

专利信息
申请号: 202022082889.6 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN213124486U 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 潘金平;陈洪;胡晓君;肖世豪;陈成克;张立安;李晓;蒋梅燕;沈益军;饶伟星;苏文霞 申请(专利权)人: 浙江海纳半导体有限公司;浙江工业大学
主分类号: H01L33/64 分类号: H01L33/64;H05B45/50
代理公司: 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 代理人: 钱磊
地址: 324300 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及散热结构技术领域,具体为一种用于硅片散热的金刚石膜散热结构,包括PCB板,PCB板表面的中部设有单晶硅片,单晶硅片的表面粘接有绝缘层,绝缘层的表面粘接有金属导电层,金属导电层的表面电性连接有多个呈矩阵式排布的LED芯片,金属导电层的外侧设有金刚石膜组件,金刚石膜组件包括金刚石薄膜板和框形金刚石膜。该用于硅片散热的金刚石膜散热结构,通过单晶硅片、绝缘层和金属导电层构成硅基板,用于安装LED芯片,通过金刚石薄膜板提高LED芯片部分的热量导出效率,通过框形金刚石膜将单晶硅片、绝缘层和金属导电层传递的热量导出,提高单晶硅片的热量导出率。
搜索关键词: 一种 用于 硅片 散热 金刚石 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江海纳半导体有限公司;浙江工业大学,未经浙江海纳半导体有限公司;浙江工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202022082889.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top