[实用新型]一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置有效
| 申请号： | 202021906543.7 | 申请日： | 2020-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN214244584U | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 李忠 | 申请（专利权）人： | 成都齐荣科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610100 四川省成都市经济技*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，包括安装座、电极和轰击棒，所述安装座包括上绝缘座、下绝缘座和固定柱，所述的上绝缘座和下绝缘座之间夹持安装板，所述固定柱上设置有轴向贯穿的通孔，所述电极贯穿通孔，电极的下端连接轰击棒，上端螺纹连接有第二螺母，所述第二螺母与第一螺母可旋转固定连接，电极的外壁中部设置有凸起条，所述通孔的内壁上设置有与凹槽。本实用新型具有的优点是本装置的轰击棒安装在电极上，电极则螺纹连接至一螺母上，而该螺母则与固定柱旋转连接，在旋转螺母后，因螺母不能在轴向上移动，则导致电极在轴向上移动，即可调节轰击棒与基片的距离，不用拆卸下整个装置，也不用改变真空状态。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 真空镀膜 设备 离子 轰击 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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