[实用新型]一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，包括安装座、电极和轰击棒，所述安装座包括上绝缘座、下绝缘座和固定柱，所述的上绝缘座和下绝缘座之间夹持安装板，所述固定柱上设置有轴向贯穿的通孔，所述电极贯穿通孔，电极的下端连接轰击棒，上端螺纹连接有第二螺母，所述第二螺母与第一螺母可旋转固定连接，电极的外壁中部设置有凸起条，所述通孔的内壁上设置有与凹槽。本实用新型具有的优点是本装置的轰击棒安装在电极上，电极则螺纹连接至一螺母上，而该螺母则与固定柱旋转连接，在旋转螺母后，因螺母不能在轴向上移动，则导致电极在轴向上移动，即可调节轰击棒与基片的距离，不用拆卸下整个装置，也不用改变真空状态。

技术领域

本实用新型涉及离子清洗领域，具体涉及一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置。

背景技术

离子束清洗（ion beam cleaning）把离子束抛光的原理应用于清洗晶片表面，称为离子束清洗。与其他清洗方法相比，离子束清洗具有无沾污、表面结构完整、无微坑等优点。

在所有干性和湿性清洗材料表面的方法中，离子束清洗表面的作用最为彻底，而且清洗工艺灵活性最强。即使与一般离子束轰击方法比较，由于离子束定向性强，工作气体压强低和离子溅射参数易于单独控制，因此这种清洗方法从技术上说独具一格。例如，采用倾斜入射离子束溅射衬底表面时，不仅可彻底清除表面的杂质异物层，而且可以同时抛光表面，改善表面的微粗糙度和提高在其上生长的晶粒的均匀性。

如果清洗只是为了去除衬底表面异物层，则离子轰击造成的表面损伤、形成掺气原子和表面结构再造等并不重要。而且，离子东轰击产生的这类表面特征往往有利于增强薄膜的附着力。在维持清洗表面温度足够低的条件下，采用500eV-1 000eV能量的惰性气体离子束轰击即可收到满意的表面清洗效果。

如果清洗的材料不允许离于束轰击造成表面晶态的严重损伤，过分改变表面材料成分的配比和表面的物理及化学性质。通常认为，只要使用的离子能量足够低就可以进行安全清洗的看法可能有误，针对不同的清洗材料对象、材料结构及性质的特点，应该明确不同的离子能量足够低的定量标准。

现有的真空镀膜设备中，在进行镀膜前，一般会先进行离子清洗，来增加基片的附着力，基片材质不同，其初始粗糙度不同，需要根据初始粗糙度来调节电压，以及轰击棒与基片的距离，如电压过大，导致离子能量较大，导致基片的粗糙度会先增加，之后才慢慢降低，这样基片的结构会发生变化，一般是厚度有细微的变化，在微电子行业，这些细微的变化是杜绝的，所以需要合适的电压，但轰击棒与基片的距离也具有一定的作用，距离过近时，粗糙度可能会先提高后，再降低，但距离过于远后，在合适的电压时，粗糙度虽然不变，但会导致清洗时间过长，所以需要调节合适的距离，在粗糙度不提高的情况下，也保证清洗时间不会太长，所以每次基片材质更换后，都需要调节轰击棒与基片的距离，一般需要拆卸装置，然后更换轰击棒，通过不同长度的轰击棒来调节距离，但这样拆卸非常麻烦，并且还需要重新抽真空，非常的麻烦。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是解决至少上述问题，并提供至少后面将说明的优点。

本实用新型的目的在于提供一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，为解决现有清洗装置，在基片材质变化后，调节轰击棒与基片间距，过程过于麻烦的缺陷。

为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点，提供了一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，包括安装座、电极和轰击棒，所述安装座包括上绝缘座、下绝缘座和固定柱，所述的上绝缘座和下绝缘座之间夹持安装板，所述安装板上设置有安装孔，上绝缘座和/或下绝缘座上设置套管进入安装孔，所述固定柱依次贯穿下绝缘座、安装孔、上绝缘座连接第一螺母，固定柱位于套管内，与安装板没有接触，所述固定柱上设置有轴向贯穿的通孔，所述电极贯穿通孔，电极的下端连接轰击棒，上端设置有螺纹头，该螺纹头上螺纹连接有第二螺母，所述第二螺母与第一螺母可旋转固定连接，电极的外壁的中部设置有轴向延伸的凸起条，所述通孔的内壁上设置有与所述凸起条配合的凹槽。