[实用新型]一种半导体材料研磨抛光设备有效
| 申请号: | 202021787710.0 | 申请日: | 2020-08-25 | 
| 公开(公告)号: | CN213561877U | 公开(公告)日: | 2021-06-29 | 
| 发明(设计)人: | 王刚 | 申请(专利权)人: | 王刚 | 
| 主分类号: | B24B31/02 | 分类号: | B24B31/02;B24B31/12;B24B31/16;B24B19/22 | 
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 | 
| 地址: | 243000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 | 
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种半导体材料研磨抛光设备,包括两个底座,两个所述底座上均设有滑槽,所述滑槽内滑动连接有支撑架,所述底座上设有用于震动支撑架的震动机构,所述支撑架上通过转轴转动连接有转桶,所述支撑架右侧壁设有第一电机,所述第一电机的输出轴贯穿支撑架并与转轴固定连接,所述转桶内转动连接有两根安装杆,两根所述安装杆上均设有多根打磨杆,多根所述打磨杆上均设有条形腔,所述条形腔内设有用于连接打磨杆与安装杆的卡接机构,所述抛转桶内固定连接有倾斜设置的分隔板,所述分隔板左右两侧均固定连接有与抛转桶内壁固定连接的滤网。本实用新型结构合理,其可以自动分离抛光后的半导体材料,方便更换用来研磨抛光的材料。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 半导体材料 研磨 抛光 设备 | ||
【主权项】:
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