[实用新型]一种上下进气式CVD反应炉有效
| 申请号: | 202021757964.8 | 申请日: | 2020-08-21 |
| 公开(公告)号: | CN213447293U | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
| 发明(设计)人: | 刘汝强;王殿春;孙蕾;吴思华;周清波 | 申请(专利权)人: | 山东国晶新材料有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/455;C04B35/83 |
| 代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 王素平 |
| 地址: | 251200 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及一种上下进气式CVD炉,包括反应炉主体,反应炉主体外部设置有炉壳,反应炉主体内部包括上反应腔室和下反应腔室,上反应腔室顶部设置有上进气管道,上反应腔室侧面设置有上出气管道;下反应腔室底部设置有下进气管道,下反应腔室侧面设置有下出气管道;上反应腔室和下反应腔室通过挡板进行分隔;上反应腔室和下反应腔室内侧均设置有保温层,保温层的中央设置有两个凹槽,挡板通过凹槽固定在保温层。本实用新型提供的上下进气式CVD炉,使得进料气体分布更加均匀,降低产品的生产成本。同时实现了上下反应腔室进入不同温度的反应原料,分别控温,使得两个腔室可以生产不同的产品,反应炉的使用更加灵活。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 上下 进气式 cvd 反应炉 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





