[实用新型]一种上下进气式CVD反应炉有效

专利信息
申请号: 202021757964.8 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN213447293U 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 刘汝强;王殿春;孙蕾;吴思华;周清波 申请(专利权)人: 山东国晶新材料有限公司
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/455;C04B35/83
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 王素平
地址: 251200 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及一种上下进气式CVD炉,包括反应炉主体,反应炉主体外部设置有炉壳,反应炉主体内部包括上反应腔室和下反应腔室,上反应腔室顶部设置有上进气管道,上反应腔室侧面设置有上出气管道;下反应腔室底部设置有下进气管道,下反应腔室侧面设置有下出气管道;上反应腔室和下反应腔室通过挡板进行分隔;上反应腔室和下反应腔室内侧均设置有保温层,保温层的中央设置有两个凹槽,挡板通过凹槽固定在保温层。本实用新型提供的上下进气式CVD炉,使得进料气体分布更加均匀,降低产品的生产成本。同时实现了上下反应腔室进入不同温度的反应原料,分别控温,使得两个腔室可以生产不同的产品,反应炉的使用更加灵活。
搜索关键词: 一种 上下 进气式 cvd 反应炉
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