[实用新型]parylene真空纳米镀膜设备有效
申请号: | 202021690948.1 | 申请日: | 2020-08-14 |
公开(公告)号: | CN213266695U | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 浦招前 | 申请(专利权)人: | 苏州派华纳米科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了parylene真空纳米镀膜设备,包括输送管,所述输送管的一端开设有螺纹孔,所述输送管的一端固定安装有第二固定法兰盘,所述螺纹孔的内部安装有调节装置,所述调节装置的中部安装有螺纹调节柱,所述螺纹调节柱的底端固定安装有挤压调节球,所述螺纹调节柱的上端固定连接有旋拧手轮,所述输送管的内部安装有控制装置,所述控制装置中安装有锥形输料管,所述锥形输料管的前端固定安装有进料管,所述进料管远离锥形输料管的一端固定连接有第一固定法兰盘,所述锥形输料管远离进料管的一端均匀固定安装有支撑弹簧。本实用新型使用过程中可以快速方便的对裂解后的活性单体的输送速度和输送量根据使用的需要进行快速的控制,使得镀膜符合要求。 | ||
搜索关键词: | parylene 真空 纳米 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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