[实用新型]一种辅助硅片减薄的电控吸附装置有效
申请号: | 202021517127.8 | 申请日: | 2020-07-28 |
公开(公告)号: | CN212934581U | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 石春生;曹丽萍;张万财;王加初 | 申请(专利权)人: | 平凉市老兵科技研发有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 汤春微 |
地址: | 744000 甘肃省平凉市*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种辅助硅片减薄的电控吸附装置,包括基体及带膜贴片环,基体中心设有空心区域及基体凹台,在基体上表面设有多个不同形状的腔体、凹台及贯通的矩形走线槽,在基体下表面设有用于固定电磁铁的多个平头沉孔及将基体固定在相应的吸盘底座上的多个圆柱头沉孔,本实用新型提供了一种辅助硅片减薄的电控吸附装置,与现有技术相比,其制作简单,加工材料需求不高,成本低,风险低,经过实际的硅片减薄试验,此装置在磨削过程中能有效避免硅片在低于100μm之后的崩边和碎裂情况,经减薄的硅片厚度实测最低厚度小于70μm,由此可以实现硅片减薄过程中“带环减薄”的操作,将减薄到划片的流程简化,提高了成片率。 | ||
搜索关键词: | 一种 辅助 硅片 吸附 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造