[实用新型]一种改进型称重传感器光刻设备有效
申请号: | 202021213867.2 | 申请日: | 2020-06-28 |
公开(公告)号: | CN212083891U | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 刘爱平;耿冬霞 | 申请(专利权)人: | 盐城市世波电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 闫超良 |
地址: | 224400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及光刻设备技术领域,具体涉及一种改进型称重传感器光刻设备,包括底座,底座上表面后侧固定有安装框,安装框内转动设置有螺杆,安装框顶端固定有伺服电机,伺服电机的动力输出轴通过轴承贯穿安装框顶部固定连接螺杆上端,螺杆上螺接贯穿有滑块,滑块滑动设置在安装框内,滑块两端固定有限位块,所安装框内壁对应限位块位置设置有限位滑槽,滑块前端固定有移动轨道,移动轨道底部设置有光刻组件,底座上表面等距离固定有三个工作台,工作台上设置有固定组件;本实用新型通过机械代替人工从而调节光刻组件的位置,节省劳动力的同时还保证了移动精度,通过固定组件能够有效将芯片板进行固定,保证了芯片加工的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 改进型 称重 传感器 光刻 设备 | ||
【主权项】:
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