[实用新型]一种适应于深度脱硝的新型SNCR脱硝系统有效

专利信息
申请号: 202020368165.5 申请日: 2020-03-20
公开(公告)号: CN211837169U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 刘冬;张世鑫;韩应;李煜哲;惠小龙;任伟峰;高洪培;王海涛;时正海;王孝全;王日超;任彪 申请(专利权)人: 中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司;山西国锦煤电有限公司
主分类号: B01D53/56 分类号: B01D53/56;B01D53/76;B01D53/34;B01F15/02;B01F3/02
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 贺小停
地址: 102209 北京市昌平区北七*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供的一种适应于深度脱硝的新型SNCR脱硝系统,包括还原剂溶解系统、还原剂溶液泵送系统、还原剂汽化系统、气体再分配器和气体喷射器,其中,还原剂溶解系统上设置有还原剂入口;还原剂溶解系统上的出料口连接还原剂溶液泵送系统的进料口,还原剂溶液泵送系统的出料口连接还原剂汽化系统的还原剂进料口;所述还原剂汽化系统上还设置有蒸汽入口;所述还原剂汽化系统的汽化还原剂出口连接气体再分配器的进料口,所述气体再分配器的出料口连接气体喷射器的入料口,气体喷射器的出料口连接炉膛;该技术解决了多年来SCR脱硝技术,存在的最大的问题投资大,占地面积大,催化剂无法处理、污染环境的问题。
搜索关键词: 一种 适应 深度 新型 sncr 系统
【主权项】:
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