[发明专利]辐射检查系统和辐射检查方法在审
| 申请号： | 202011642948.9 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN114764074A | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 芮晓亮;王永明;许艳伟 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司;同方威视科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01V5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张琛 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 提供一种辐射检查系统和方法。所述辐射检查系统包括：辐射成像装置；多个检测装置，分别设置在辐射检查位置的下游的多个预设位置处，多个预设位置与辐射检查位置之间沿检查通道限定的行进方向的距离不同，多个检测装置分别用于检测被检物体的需避让部分的前端到达相应的预设位置的多个时刻，并发出分别包括多个时刻的多个检测信号；以及控制装置。控制装置被配置为：确定被检物体的类型，其中，不同类型的被检物体的需避让部分的长度不同；响应于不同类型的被检物体，接收与该类型的被检物体对应的检测装置发出的检测信号；以及在所述检测信号包括的时刻之后经过预定时间间隔，发出用于控制辐射成像装置发射辐射束的指令。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 检查 系统 方法 | ||
【主权项】：
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