[发明专利]一种柔性AMOLED掩模版的清洗工艺在审
申请号: | 202011638583.2 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112764310A | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 钱超;余洋;植启东;黄斌 | 申请(专利权)人: | 南京深光科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00 |
代理公司: | 济南鼎信专利商标代理事务所(普通合伙) 37245 | 代理人: | 梁国海 |
地址: | 211102 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种柔性AMOLED掩模版的清洗装置,包括机壳,所述机壳的内壁固定安装有固定装置,所述固定装置的内部包括伸缩杆,所述伸缩杆远离机壳的一端设置有活动连板,所述活动连板的内壁与伸缩杆的外壁活动连接,所述活动连板远离伸缩杆的一端固定安装有限位块,所述限位块的内部设置有旋转轴,所述旋转轴的外壁与限位块的内壁活动连接,所述旋转轴的外壁固定安装有安装凹台,所述安装凹台的内部设置有控制轴,所述控制轴的两端与安装凹台的内壁活动连接,所述控制轴的外壁固定安装有固定杆一。通过固定装置能够对掩膜版进行固定,用于不同尺寸的掩膜版,旋转轴能够带动固定装置转动,进一步带动掩膜版转动,缩短药液浸泡时间,提高清洗效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 amoled 模版 清洗 工艺 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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