[发明专利]成像探测系统和成像探测方法在审

专利信息
申请号: 202011617463.4 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112799041A 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 崔振茂;成彬彬;吴强;安健飞;马学亮;谢中凯;赵君;陈俊豪 申请(专利权)人: 上海工物高技术产业发展有限公司
主分类号: G01S13/04 分类号: G01S13/04;G01V3/12
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 郭凤杰
地址: 200135 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及安检技术领域,公开了一种成像探测系统和成像探测方法。成像探测系统包括电磁波扫描模块,用于发射电磁波至目标物体,并接收被目标物体反射的回波信号;数据采集模块,与电磁波扫描模块相连接,用于对回波信号进行信号采集;控制模块,分别与电磁波扫描模块和数据采集模块相连接,用于控制电磁波扫描模块产生电磁波,并控制电磁波扫描模块和数据采集模块按照预设运动方式进行运动;数据处理模块,与数据采集模块相连接,用于根据回波信号获取扫描图像,并对扫描图像进行识别,判断扫描图像中是否有危险物品。由于电磁波可穿透鞋底,因此可以精准地呈现足底的各部分图像,根据图像完成对足底隐藏危险品的预警,安检效率高。
搜索关键词: 成像 探测 系统 方法
【主权项】:
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